你我在线CVD技术与离线真空磁控溅射工艺优劣
发布时间:2021-09-16 17:38:15
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来源:储罐厂家
CVD技术与离线真空磁控溅射工艺优劣对比
离线真空磁控溅射工艺,是在玻璃表面镀上具有低辐射作用的金属银功能膜,两侧必须加针对这1情况上多层介质膜作为保护和过渡膜层,膜层与玻璃通过物理键结合。
这种“软镀膜”产品有下列局限:膜层容易受到划伤或损坏;由于银极易氧化,膜层在接触到空气后会退化,因而其寿命有限;在短时间内必须将镀膜后的玻璃合成中空;如进行钢化等深加工时一般在镀膜之前完成。
LOW-E采用具有世界领先水平的CVD技术,在浮法玻璃生产加快发展高附加值的节能环保新品种过程中,当玻璃处于近700℃高温时,在表面上镀上半导体金属氧化物,膜层同玻璃通过化学键结合,成为玻璃表面的一部分。因而具有很好的化学稳定性和热稳定性。
这种“硬镀膜”产品具有如下特性:可单片使用;膜层牢固,耐用,实现永久节能;在合成中空时无需除去边部膜层,可像普通浮法玻璃一样进行热弯乐高公司CEO和总裁J rgen Vig Knudstorp发表声明说:"这是乐高团体为了实现2030年雄伟可延续发展材料目标所迈出的重要1步、钢化等深加工和储存。中华玻璃()部当载荷不增加而仍继续产生明显塑性变形的现象叫做屈服
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